關于氟離子電極Process F的注意點

上泰的工業氟離子測定儀主要為IT-8100，主要配的電極為Process F。主要使用在半導體行業，太陽能電池行業，冶金行業等廢水處理過程以及排放F的監控。一般排放口要求F的含量在15ppm以下。廢水處理過程中F的含量監控在幾百到幾千之間都有。

此款氟離子電極Process F的設計測量范圍為0-20000ppm.如果用于排放口監控，一般選用1ppm和10ppm的標準液進行兩點校正。如果是反應過程中的監控，一般選用10ppm和100ppm進行兩點校正。

由于去除廢水中的F經常使用氫氧化鈣，所以氟電極的表面經常容易形成氟化鈣的結垢。在對氟離子計進行校正之前，要想辦法先去除表面的結垢。方法一是用鹽酸浸泡，二是使用隨機配送的裘皮和滑石粉，方法是倒取少量的滑石粉于裘皮上，將電極表面的氟晶片慢慢在裘皮上摩擦，直到表面結垢去除為止。然后需要把電極浸泡在去離子水中，直到電位在200mv以上。使用過后的氟離子電極多多少少都會發生零點電位的偏移。所以泡在去離子水中的時間要稍微長一些，且每隔一小時更換一下去離子水，電位有時達不到200MV,起碼也要在180MV以上，不然兩點校正很難通過。

總之，相對于PH而言，氟離子的校正要稍微復雜一些，如果您在使用過程中遇到問題，請我們幫忙解決。