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      關于氟離子電極Process F的注意點

      更新時間:2015-05-11      瀏覽次數:2347

      上泰的工業氟離子測定儀主要為IT-8100,主要配的電極為Process F。主要使用在半導體行業,太陽能電池行業,冶金行業等廢水處理過程以及排放F的監控。一般排放口要求F的含量在15ppm以下。廢水處理過程中F的含量監控在幾百到幾千之間都有。

      此款氟離子電極Process F的設計測量范圍為0-20000ppm.如果用于排放口監控,一般選用1ppm和10ppm的標準液進行兩點校正。如果是反應過程中的監控,一般選用10ppm和100ppm進行兩點校正。

      由于去除廢水中的F經常使用氫氧化鈣,所以氟電極的表面經常容易形成氟化鈣的結垢。在對氟離子計進行校正之前,要想辦法先去除表面的結垢。方法一是用鹽酸浸泡,二是使用隨機配送的裘皮和滑石粉,方法是倒取少量的滑石粉于裘皮上,將電極表面的氟晶片慢慢在裘皮上摩擦,直到表面結垢去除為止。然后需要把電極浸泡在去離子水中,直到電位在200mv以上。使用過后的氟離子電極多多少少都會發生零點電位的偏移。所以泡在去離子水中的時間要稍微長一些,且每隔一小時更換一下去離子水,電位有時達不到200MV,起碼也要在180MV以上,不然兩點校正很難通過。

      總之,相對于PH而言,氟離子的校正要稍微復雜一些,如果您在使用過程中遇到問題,請我們幫忙解決。

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